Von dem Buch Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) haben wir 4 gleiche oder sehr ähnliche Ausgaben identifiziert!

Falls Sie nur an einem bestimmten Exempar interessiert sind, können Sie aus der folgenden Liste jenes wählen, an dem Sie interessiert sind:

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)100%: Chris R. Kleijn; Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (ISBN: 9783764328580) 1993, Erstausgabe, in Englisch, Broschiert.
Nur diese Ausgabe anzeigen…
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films96%: Chris R. Kleijn; Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (ISBN: 9783034877411) in Deutsch, auch als eBook.
Nur diese Ausgabe anzeigen…
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)96%: Kleijn, Chris R.; Werner, Christoph: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (ISBN: 9780817628581) 1993, in Englisch, Broschiert.
Nur diese Ausgabe anzeigen…
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films93%: Chris R. Kleijn: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (ISBN: 9783034877435) 2013, in Deutsch, Taschenbuch.
Nur diese Ausgabe anzeigen…

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
15 Angebote vergleichen

Preise2013201420152019
SchnittFr. 156.32 ( 159.33)¹ Fr. 94.23 ( 96.05)¹ Fr. 74.04 ( 75.47)¹ Fr. 42.24 ( 43.06)¹
Nachfrage
Bester Preis: Fr. 30.49 ( 31.08)¹ (vom 15.06.2019)
1
9780817628581 - Chris R. Kleijn, Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
Chris R. Kleijn, Christoph Werner

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika EN HC NW

ISBN: 9780817628581 bzw. 0817628584, in Englisch, 126 Seiten, Birkhauser, gebundenes Buch, neu.

Fr. 45.63 ($ 49.50)¹ + Versand: Fr. 3.68 ($ 3.99)¹ = Fr. 49.31 ($ 53.49)¹
unverbindlich
Lieferung aus: Vereinigte Staaten von Amerika, Usually ships in 1-2 business days.
Von Händler/Antiquariat, scholarsattic.
Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence reduce the cost and improve the quality of the reactors. This book is the result of two parallel lines of research dealing with the same subject - Modeling of Tungsten CVD processes -, which were per­ formed independently under very different boundary conditions. On the one side, Chris Kleijn, working in an academic research environment, was able to go deep enough into the subject to laya solid foundation and prove the validity of all the assumptions made in his work. On the other side, Christoph Werner, working in the context of an industrial research lab, was able to closely interact with manufacturing and development engineers in a modern submicron semiconductor processing line. Because of these different approaches, the informal collaboration during the course of the projects proved to be extremely helpful to both sides, even though - or perhaps because - different computer codes, different CVD reactors and also slightly different models were used. In spite of the inconsistencies which might arise from this double approach, we feel that the presentation of both sets of results in one book will be very useful for people working in similar projects. Hardcover, Label: Birkhauser, Birkhauser, Produktgruppe: Book, Publiziert: 1993-03-25, Studio: Birkhauser, Verkaufsrang: 14053667.
2
9780817628581 - Chris R. Kleijn, Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
Symbolbild
Chris R. Kleijn, Christoph Werner

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika EN HC

ISBN: 9780817628581 bzw. 0817628584, in Englisch, Birkhauser, gebundenes Buch.

Fr. 62.57 ($ 67.88)¹ + Versand: Fr. 3.68 ($ 3.99)¹ = Fr. 66.25 ($ 71.87)¹
unverbindlich
Lieferung aus: Vereinigte Staaten von Amerika, Versandkosten nach: USA.
Von Händler/Antiquariat, Ergodebooks.
Birkhauser, 1993-03-25. Hardcover. Used:Good. Buy with confidence. Excellent Customer Service & Return policy. Ships Fast. 24*7 Customer Service.
3
9783764328580 - Chris R. Kleijn; Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
Symbolbild
Chris R. Kleijn; Christoph Werner

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Deutschland ~EN HC

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, vermutlich in Englisch, Birkhäuser, gebundenes Buch, mit Einband.

Fr. 47.04 ( 47.95)¹ + Versand: Fr. 1.96 ( 2.00)¹ = Fr. 49.01 ( 49.95)¹
unverbindlich
Von Händler/Antiquariat, medimops [55410863], Berlin, Germany.
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
4
9783764328580 - Kleijn, Chris R., Werner, Christoph: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
Symbolbild
Kleijn, Chris R., Werner, Christoph

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika ~EN US FE

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, vermutlich in Englisch, Birkhäuser, gebraucht, Erstausgabe.

Fr. 30.49 ( 31.08)¹ + Versand: Fr. 4.81 ( 4.90)¹ = Fr. 35.30 ( 35.98)¹
unverbindlich
Von Händler/Antiquariat, Better World Books [51315977], Mishawaka, IN, U.S.A.
Great condition for a used book! Minimal wear.
5
9783764328580 - Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika EN US

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, in Englisch, Birkhauser Basel, Birkhauser Basel, gebraucht.

Fr. 62.24 ($ 72.00)¹
unverbindlich
Lieferung aus: Vereinigte Staaten von Amerika, zzgl. Versandkosten, Free Shipping on eligible orders over $25.
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
6
9783764328580 - Kleijn, Chris R.;Werner, Christoph: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
Symbolbild
Kleijn, Chris R.;Werner, Christoph

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika DE HC NW

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, in Deutsch, Birkenhäuser Verlag, Basel/Boston/Stuttgart, Schweiz, gebundenes Buch, neu.

Fr. 70.10 ( 71.45)¹ + Versand: Fr. 2.86 ( 2.91)¹ = Fr. 72.95 ( 74.36)¹
unverbindlich
Von Händler/Antiquariat, FOREST OF WISDOM LLC [4541006], Northbrook, IL, U.S.A.
BRAND NEW. gift quality.
7
9783764328580 - Kleijn, Chris R.;Werner, Christoph: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
Symbolbild
Kleijn, Chris R.;Werner, Christoph

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika DE HC NW

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, in Deutsch, Birkhauser Verlag, gebundenes Buch, neu.

Fr. 85.84 ( 87.49)¹ + Versand: Fr. 3.50 ( 3.57)¹ = Fr. 89.34 ( 91.06)¹
unverbindlich
Von Händler/Antiquariat, FOREST OF WISDOM LLC [4541006], Northbrook, IL, U.S.A.
BRAND NEW. gift quality.
8
9783764328580 - Kleijn, Chris R.: Gebr. - Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
Kleijn, Chris R.

Gebr. - Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Deutschland ~EN US

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, vermutlich in Englisch, Birkenhäuser Verlag, Basel/Boston/Stuttgart, Schweiz, gebraucht.

Fr. 46.22 ( 47.11)¹ + Versand: Fr. 13.79 ( 14.06)¹ = Fr. 60.01 ( 61.17)¹
unverbindlich
Die Beschreibung dieses Angebotes ist von geringer Qualität oder in einer Fremdsprache. Trotzdem anzeigen
9
9783764328580 - Chris R. Kleijn, Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics)
Symbolbild
Chris R. Kleijn, Christoph Werner

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Vereinigte Staaten von Amerika ~EN HC

ISBN: 9783764328580 bzw. 3764328584, vermutlich in Englisch, Birkhäuser Basel, gebundenes Buch.

Fr. 40.31 ( 41.09)¹ + Versand: Fr. 8.73 ( 8.90)¹ = Fr. 49.05 ( 49.99)¹
unverbindlich
Von Händler/Antiquariat, Ergodebooks [8304062], RICHMOND, TX, U.S.A.
Books.
10
9780817628581 - Kleijn, Chris R, and Werner, C: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
Symbolbild
Kleijn, Chris R, and Werner, C

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (1993)

Lieferung erfolgt aus/von: Indien EN HC NW

ISBN: 9780817628581 bzw. 0817628584, in Englisch, Birkhauser, gebundenes Buch, neu.

Fr. 80.65 ($ 87.48)¹
unverbindlich
Lieferung aus: Indien, zzgl. Versandkosten, Verandgebiet: INT.
Von Händler/Antiquariat, DELHI BOOK STORE, DELHI, NEW DELHI, [RE:5].
Hard cover, Illustrated.
Lade…