Von dem Buch Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films haben wir 3 gleiche oder sehr ähnliche Ausgaben identifiziert!
Falls Sie nur an einem bestimmten Exempar interessiert sind, können Sie aus der folgenden Liste jenes wählen, an dem Sie interessiert sind:
100%: Chris R. Kleijn: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (ISBN: 9783034877435) 2013, in Deutsch, Taschenbuch.Nur diese Ausgabe anzeigen…
100%: Chris R. Kleijn; Christoph Werner: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (ISBN: 9783034877411) in Deutsch, auch als eBook.Nur diese Ausgabe anzeigen…
100%: Kleijn, Chris R.; Werner, Christoph: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) (ISBN: 9780817628581) 1993, in Englisch, Broschiert.Nur diese Ausgabe anzeigen…
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
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| Preise | 2013 | 2014 | 2015 | 2016 | 2019 |
|---|---|---|---|---|---|
| Schnitt | Fr. 77.34 (€ 79.79)¹ | Fr. 90.19 (€ 93.04)¹ | Fr. 75.18 (€ 77.57)¹ | Fr. 82.96 (€ 85.59)¹ | Fr. 58.57 (€ 60.42)¹ |
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (2013)
DE PB NW RPISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Taschenbuch, neu, Nachdruck.
Lieferung aus: Deutschland, Next Day, Versandkostenfrei.
Erscheinungsdatum: 20.11.2013, Medium: Taschenbuch, Einband: Kartoniert / Broschiert, Titel: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films, Auflage: Softcover reprint of the original 1st ed. 1993, Autor: Kleijn, Chris R. // Werner, Christoph, Verlag: Birkhäuser Basel // Springer Basel, Sprache: Englisch, Rubrik: Geisteswissenschaften allgemein, Seiten: 140, Informationen: Book, Gewicht: 213 gr, Verkäufer: averdo.
Erscheinungsdatum: 20.11.2013, Medium: Taschenbuch, Einband: Kartoniert / Broschiert, Titel: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films, Auflage: Softcover reprint of the original 1st ed. 1993, Autor: Kleijn, Chris R. // Werner, Christoph, Verlag: Birkhäuser Basel // Springer Basel, Sprache: Englisch, Rubrik: Geisteswissenschaften allgemein, Seiten: 140, Informationen: Book, Gewicht: 213 gr, Verkäufer: averdo.
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
DE PB USISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Birkhauser Basel, Birkhauser Basel, Birkhauser Basel, Taschenbuch, gebraucht.
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
DE PB NWISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Birkhäuser, Taschenbuch, neu.
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buecher.de GmbH & Co. KG, [1].
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
DEISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Springer Basel.
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
DE PB NWISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Springer Shop, Taschenbuch, neu.
Lieferung aus: Vereinigtes Königreich Grossbritannien und Nordirland, Lagernd, zzgl. Versandkosten.
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
DE NWISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Springer-Verlag/Sci-Tech/Trade, neu.
Lieferung aus: Kanada, Lagernd, zzgl. Versandkosten.
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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
DE PB NWISBN: 9783034877435 bzw. 3034877439, in Deutsch, Birkhäuser Basel, Taschenbuch, neu.
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