Die Behandlung und Reindarstellung von Gasen: Ein Hilfsbuch zur Einführung in das Arbeiten mit Gasen für Chemiker, Physiker und Industrie-Laboratorien (German Edition)
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Die Behandlung und Reindarstellung von Gasen (1948)
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ISBN: 9783211800546 bzw. 3211800549, in Deutsch, Springer Jan 1948, Taschenbuch, neu, Nachdruck.
Von Händler/Antiquariat, AHA-BUCH GmbH [51283250], Einbeck, Germany.
This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware - InhaltsangabeErster Teil.- I. Gasherstellung.- A. Allgemeine Apparate.- B. Elektrolytische Herstellung von Gasen.- C. Ozonisator (Siemens-Röhre).- D. Aufbewahrung von Gasen.- E. Sperrflüssigkeiten.- F. Messung des Druckes.- G. Kreislauf von Gasen.- H. Strömungsmanometer.- J. Dichten der Hähne, Schliffe und Apparatverbindungen.- K. Ventile.- II. Reinheitsgrad, Begriff und Feststellung.- A. Allgemeines.- B. Gewichts- und Volumenbeziehungen.- C. Die analytischen Verfahren (Literatur über Gasanalyse).- a) Chemische Methoden zur Bestimmung kleiner Mengen von Begleitgasen, wenn sich diese in reinem Stickstoff befinden.- b) Physikalische Methoden.- ) Dichtebestimmung.- 1. Ausströmungsmethode.- 2. Schwebewaage.- 3. Direkte Wägung.- ss) Wärmeleitfähigkeit.- ) Interferometer für Gase.- ) Die spektroskopischen Methoden.- ) Dampfdruck der flüssigen Phase, isotherme Destillation, Schmelzpunkt.- D. Reinheitsgrad eines Gases und Verwendung.- III. Reinigungsmethoden ohne Kondensation.- A. Trocknen der Gase, die Trockenmittel, Tiefkühlung.- B. Gaswaschflaschen.- C. Absorptionsmittel für Gase.- D. Entfernung von Nebel und Schwebestoffen in Gasen.- E. Gastrennung durch Diffusion.- F. Das Trennrohr.- a) Aufbau einer Trennrohranlage.- b) Zur Theorie des Trennrohres.- c) Die Gesetze des Trennrohres.- d) Die Leistung des Trennrohres.- e) Die kontinuierlich arbeitende Trennrohranlage.- f) Das gestaffelte Trennrohr.- g) Das mit Draht geheizte Clusius-Dickel-Trennrohr.- Schlussbemerkungen.- G. Isotopentrennung.- IV. Reinigungsmethoden mit Kondensation.- A. Fraktionierung eines Gasgemisches.- Allgemeines.- a) Dampfdruck.- b) Isotherme Destillation.- c) Schmelzpunkt (Umwandlungspunkt).- d) Dichte der flüssigen Gasphase.- B. Die besonderen Fraktionierungsmethoden.- a) Fraktionierte Verdampfung (feste, flüssige Systeme, Beispiele).- b) Fraktionierte Kondensation.- c) Fraktionierte Destillation.- d) Fraktionierkolonnen.- e) Gastrennung durch Adsorption (Sorption).- V. Herstellung tiefer Temperaturen.- a) Thermostaten.- b) Thermostaten für tiefe Temperaturen.- VI. Das allgemeine Gerät zur Reinigung und Behandlung von Gasen.- A. Die Verwendung der Hochvakuumpumpe, Ausfriergefässe.- a) Das Pumpenaggregat.- b) Ausfriergefässe.- B. Dampfdruck-Thermometer nach A. Stock.- C. Glas- und Quarz-Federmanometer.- VII. Gase in Stahlflaschen.- Zweiter Teil.- Die mit \* bezeichneten Gase sind nicht ausführlich behandelt. Die Deuteriumverbindung ist bei der entsprechenden Wasserstoff-Verbindung zu finden.- Herstellung reiner Gase.- Wasserstoff H2.- Deuterium D2.- Parawasserstoff p-H2.- Stickstoff N2.- Sauerstoff O2.- Ozon O3.- Fluor F2.- Chlor Cl2.- Borwasserstoff Diboran B2H6.- Bortrifluorid BF3.- Kohlenoxyd CO.- Kohlendioxyd CO2.- Tricarbondioxyd (Kohlensuboxyd) C3O2.- Die Kohlenwasserstoffe.- Methan CH4.- Äthan C2H6.- Äthylen C2H4.- Acetylen C2H2.- Methylacetylen (Allylen) CH3-C CH.- Propan C3H8.- Propylen C3H6.- Weitere Kohlenwasserstoffe.- \*n-Butan.- \*Isobutan.- \*Buten-(1).- \*Buten-(2).- \*Isobutylen.- \*Butadien-(1, 3).- \*Äthylacetylen.- \*Vinylacetylen.- \*Butadiin.- \*Tetramethylmethan (Neopentan).- Methylfluorid CH3F.- Methylchlorid CH3Cl.- Methylbromid CH3Br.- Dicyan C2N2.- Cyanwasserstoff HCN.- Cyanchlorid CNCl.- Kohlenoxychlorid (Phosgen) COCl2.- Kohlenoxysulfid COS.- Methylmerkaptan CH3SH.- Dimethyläther CH3-O-CH3.- Methyläthyläther CH3-O-C2H5.- Silane.- Monosilan SiH4.- Disilan Si2H6.- Siliciumfluorid SiF4.- Hexafluordisilan Si2F6.- Andere substituierte Silane.- \*Siliciumtetrafluorid SiF4.- \*Trifluorchlorsilan SiF3Cl.- \*Difluordichlorsilan SiF2Cl2.- \*Trichlorfluorsilan SiFCl3.- und Tabelle.- Germaniumwasserstoff (Germane).- Ammoniak NH3.- Stickoxydul N2O.- Stickoxyd NO.- Stickstoffdioxyd NO2.- Nitrosylchlorid NOCl.- Nitrylchlorid NO2Cl.- Phosphorwasserstoff PH3.- PhosphorIII-fluorid PF3.- PhosphorV-fluorid PF5.- Phosphoroxyfluorid POF3.- Arsenwasserstoff AsH3.- Antimonwasserstoff Stibin SbH.
This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware - InhaltsangabeErster Teil.- I. Gasherstellung.- A. Allgemeine Apparate.- B. Elektrolytische Herstellung von Gasen.- C. Ozonisator (Siemens-Röhre).- D. Aufbewahrung von Gasen.- E. Sperrflüssigkeiten.- F. Messung des Druckes.- G. Kreislauf von Gasen.- H. Strömungsmanometer.- J. Dichten der Hähne, Schliffe und Apparatverbindungen.- K. Ventile.- II. Reinheitsgrad, Begriff und Feststellung.- A. Allgemeines.- B. Gewichts- und Volumenbeziehungen.- C. Die analytischen Verfahren (Literatur über Gasanalyse).- a) Chemische Methoden zur Bestimmung kleiner Mengen von Begleitgasen, wenn sich diese in reinem Stickstoff befinden.- b) Physikalische Methoden.- ) Dichtebestimmung.- 1. Ausströmungsmethode.- 2. Schwebewaage.- 3. Direkte Wägung.- ss) Wärmeleitfähigkeit.- ) Interferometer für Gase.- ) Die spektroskopischen Methoden.- ) Dampfdruck der flüssigen Phase, isotherme Destillation, Schmelzpunkt.- D. Reinheitsgrad eines Gases und Verwendung.- III. Reinigungsmethoden ohne Kondensation.- A. Trocknen der Gase, die Trockenmittel, Tiefkühlung.- B. Gaswaschflaschen.- C. Absorptionsmittel für Gase.- D. Entfernung von Nebel und Schwebestoffen in Gasen.- E. Gastrennung durch Diffusion.- F. Das Trennrohr.- a) Aufbau einer Trennrohranlage.- b) Zur Theorie des Trennrohres.- c) Die Gesetze des Trennrohres.- d) Die Leistung des Trennrohres.- e) Die kontinuierlich arbeitende Trennrohranlage.- f) Das gestaffelte Trennrohr.- g) Das mit Draht geheizte Clusius-Dickel-Trennrohr.- Schlussbemerkungen.- G. Isotopentrennung.- IV. Reinigungsmethoden mit Kondensation.- A. Fraktionierung eines Gasgemisches.- Allgemeines.- a) Dampfdruck.- b) Isotherme Destillation.- c) Schmelzpunkt (Umwandlungspunkt).- d) Dichte der flüssigen Gasphase.- B. Die besonderen Fraktionierungsmethoden.- a) Fraktionierte Verdampfung (feste, flüssige Systeme, Beispiele).- b) Fraktionierte Kondensation.- c) Fraktionierte Destillation.- d) Fraktionierkolonnen.- e) Gastrennung durch Adsorption (Sorption).- V. Herstellung tiefer Temperaturen.- a) Thermostaten.- b) Thermostaten für tiefe Temperaturen.- VI. Das allgemeine Gerät zur Reinigung und Behandlung von Gasen.- A. Die Verwendung der Hochvakuumpumpe, Ausfriergefässe.- a) Das Pumpenaggregat.- b) Ausfriergefässe.- B. Dampfdruck-Thermometer nach A. Stock.- C. Glas- und Quarz-Federmanometer.- VII. Gase in Stahlflaschen.- Zweiter Teil.- Die mit \* bezeichneten Gase sind nicht ausführlich behandelt. Die Deuteriumverbindung ist bei der entsprechenden Wasserstoff-Verbindung zu finden.- Herstellung reiner Gase.- Wasserstoff H2.- Deuterium D2.- Parawasserstoff p-H2.- Stickstoff N2.- Sauerstoff O2.- Ozon O3.- Fluor F2.- Chlor Cl2.- Borwasserstoff Diboran B2H6.- Bortrifluorid BF3.- Kohlenoxyd CO.- Kohlendioxyd CO2.- Tricarbondioxyd (Kohlensuboxyd) C3O2.- Die Kohlenwasserstoffe.- Methan CH4.- Äthan C2H6.- Äthylen C2H4.- Acetylen C2H2.- Methylacetylen (Allylen) CH3-C CH.- Propan C3H8.- Propylen C3H6.- Weitere Kohlenwasserstoffe.- \*n-Butan.- \*Isobutan.- \*Buten-(1).- \*Buten-(2).- \*Isobutylen.- \*Butadien-(1, 3).- \*Äthylacetylen.- \*Vinylacetylen.- \*Butadiin.- \*Tetramethylmethan (Neopentan).- Methylfluorid CH3F.- Methylchlorid CH3Cl.- Methylbromid CH3Br.- Dicyan C2N2.- Cyanwasserstoff HCN.- Cyanchlorid CNCl.- Kohlenoxychlorid (Phosgen) COCl2.- Kohlenoxysulfid COS.- Methylmerkaptan CH3SH.- Dimethyläther CH3-O-CH3.- Methyläthyläther CH3-O-C2H5.- Silane.- Monosilan SiH4.- Disilan Si2H6.- Siliciumfluorid SiF4.- Hexafluordisilan Si2F6.- Andere substituierte Silane.- \*Siliciumtetrafluorid SiF4.- \*Trifluorchlorsilan SiF3Cl.- \*Difluordichlorsilan SiF2Cl2.- \*Trichlorfluorsilan SiFCl3.- und Tabelle.- Germaniumwasserstoff (Germane).- Ammoniak NH3.- Stickoxydul N2O.- Stickoxyd NO.- Stickstoffdioxyd NO2.- Nitrosylchlorid NOCl.- Nitrylchlorid NO2Cl.- Phosphorwasserstoff PH3.- PhosphorIII-fluorid PF3.- PhosphorV-fluorid PF5.- Phosphoroxyfluorid POF3.- Arsenwasserstoff AsH3.- Antimonwasserstoff Stibin SbH.
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